欢迎您来到韦氏纳米系统(深圳)有限公司网站!
产品中心 / products 您的位置:网站首页 > 产品中心 > OAI/美国 > Model 800E 紫外掩膜曝光机
  • Model 800E 增强型半自动紫外掩膜曝光机
    Model 800E 增强型半自动紫外掩膜曝光机

    Model 800E 增强型半自动紫外掩膜曝光机由OAI设计与制造 在半导体行业,OAI 拥有 40 余年产品研发和制造经验,以专为研发及半自动生产设计的光刻设备,应对动态市场日益增长的挑战。800E 型基于经实践验证的 OAI 模块化平台打造,是一套增强型、高性能、高分辨率光刻系统,在该价格段性能好。对准器搭载 OAI 优良光束光学技术,均匀性佳。

    更新时间:2025-07-04型号:浏览量:83
共 1 条记录,当前 1 / 1 页  首页  上一页  下一页  末页  跳转到第页 
18721247059

联系我们

contact us

咨询电话

400-9999-18518721247059

扫一扫,关注我们

返回顶部