Model 800E 增强型半自动紫外掩膜曝光机由OAI设计与制造 在半导体行业，OAI 拥有 40 余年产品研发和制造经验，以专为研发及半自动生产设计的光刻设备，应对动态市场日益增长的挑战。800E 型基于经实践验证的 OAI 模块化平台打造，是一套增强型、高性能、高分辨率光刻系统，在该价格段性能好。对准器搭载 OAI 优良光束光学技术，均匀性佳。