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Model 800E 增强型半自动紫外掩膜曝光机由OAI设计与制造 在半导体行业,OAI 拥有 40 余年产品研发和制造经验,以专为研发及半自动生产设计的光刻设备,应对动态市场日益增长的挑战。800E 型基于经实践验证的 OAI 模块化平台打造,是一套增强型、高性能、高分辨率光刻系统,在该价格段性能好。对准器搭载 OAI 优良光束光学技术,均匀性佳。
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