Model 800E 增强型半自动紫外掩膜曝光机

简要描述：Model 800E 增强型半自动紫外掩膜曝光机由OAI设计与制造
在半导体行业，OAI 拥有 40 余年产品研发和制造经验，以专为研发及半自动生产设计的光刻设备，应对动态市场日益增长的挑战。800E 型基于经实践验证的 OAI 模块化平台打造，是一套增强型、高性能、高分辨率光刻系统，在该价格段性能好。对准器搭载 OAI 优良光束光学技术，均匀性佳。

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所属分类：Model 800E 紫外掩膜曝光机

更新时间：2025-07-04

厂商性质：生产厂家

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Model 800E 增强型半自动紫外掩膜曝光机

Model 800E 增强型半自动紫外掩膜曝光机

在半导体行业，OAI 拥有 40 余年产品研发和制造经验，以专为研发及半自动生产设计的光刻设备，应对动态市场日益增长的挑战。800E 型基于经实践验证的 OAI 模块化平台打造，是一套增强型、高性能、高分辨率光刻系统，在该价格段性价比高。对准器搭载 OAI 优良光束光学技术，良好均匀性。借助 OAI 精密光刻模块可实现升级，800E 型成为实验室或现场适用的多功能工具。它采用 Windows 10 控制及配方存储功能，还配备操纵杆控制的对准和光学载台，可配置非接触式三点楔效应校正及自动对准功能。这些特性组合常见于更昂贵的掩模对准器，而 800E 型以实惠价格即可提供。

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