欢迎您来到韦氏纳米系统(深圳)有限公司网站!
产品中心 / products 您的位置:网站首页 > 产品中心 > OAI > Model 800E 紫外掩膜曝光机 > Model 800E 增强型半自动紫外掩膜曝光机

Model 800E 增强型半自动紫外掩膜曝光机

简要描述:Model 800E 增强型半自动紫外掩膜曝光机由OAI设计与制造
在半导体行业,OAI 拥有 40 余年产品研发和制造经验,以专为研发及半自动生产设计的光刻设备,应对动态市场日益增长的挑战。800E 型基于经实践验证的 OAI 模块化平台打造,是一套增强型、高性能、高分辨率光刻系统,在该价格段性能好。对准器搭载 OAI 优良光束光学技术,均匀性佳。

产品型号:

所属分类:Model 800E 紫外掩膜曝光机

更新时间:2025-07-04

厂商性质:生产厂家

详情介绍

Model 800E 增强型半自动紫外掩膜曝光机

Model 800E 增强型半自动紫外掩膜曝光机

在半导体行业,OAI 拥有 40 余年产品研发和制造经验,以专为研发及半自动生产设计的光刻设备,应对动态市场日益增长的挑战。800E 型基于经实践验证的 OAI 模块化平台打造,是一套增强型、高性能、高分辨率光刻系统,在该价格段性价比高。对准器搭载 OAI 优良光束光学技术,良好均匀性。借助 OAI 精密光刻模块可实现升级,800E 型成为实验室或现场适用的多功能工具。它采用 Windows 10 控制及配方存储功能,还配备操纵杆控制的对准和光学载台,可配置非接触式三点楔效应校正及自动对准功能。这些特性组合常见于更昂贵的掩模对准器,而 800E 型以实惠价格即可提供 。


——————————————————————————————————————

标准正面特性

  • 配备双 100 万像素分辨率的千兆以太网(GIGE)CCD 相机

  • 可处理最大 8 英寸见方的基板,掩模最大为 9 英寸 ×9 英寸

  • 由带配方存储功能的 Windows 电脑控制

  • 电动操纵杆用于对准和定位

  • 曝光模式:真空、硬接触、软接触和接近式

  • 自动楔效应补偿

标准背面特性

  • 包含上述所有正面特性,另加:

  • 额外配备 2 个相机(共 4 个)

  • 数字变焦功能

  • 电动背面光学聚焦

标准背面特性

半自动正面对准背面对准优良光束光学系统2相机和4相机版本多种可选配置

Model 800E 增强型半自动紫外掩膜曝光机


Model 800E 增强型半自动紫外掩膜曝光机规格参数

Model 800E 增强型半自动紫外掩膜曝光机







留言框

  • 产品:

  • 您的单位:

  • 您的姓名:

  • 联系电话:

  • 常用邮箱:

  • 省份:

  • 详细地址:

  • 补充说明:

  • 验证码:

    请输入计算结果(填写阿拉伯数字),如:三加四=7
18721247059

联系我们

contact us

咨询电话

400-9999-18518721247059

扫一扫,关注我们

返回顶部