Model 800E 增强型半自动紫外掩膜曝光机
简要描述:Model 800E 增强型半自动紫外掩膜曝光机由OAI设计与制造在半导体行业,OAI 拥有 40 余年产品研发和制造经验,以专为研发及半自动生产设计的光刻设备,应对动态市场日益增长的挑战。800E 型基于经实践验证的 OAI 模块化平台打造,是一套增强型、高性能、高分辨率光刻系统,在该价格段性能好。对准器搭载 OAI 优良光束光学技术,均匀性佳。
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所属分类:Model 800E 紫外掩膜曝光机
更新时间:2025-07-04
厂商性质:生产厂家
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Model 800E 增强型半自动紫外掩膜曝光机
在半导体行业,OAI 拥有 40 余年产品研发和制造经验,以专为研发及半自动生产设计的光刻设备,应对动态市场日益增长的挑战。800E 型基于经实践验证的 OAI 模块化平台打造,是一套增强型、高性能、高分辨率光刻系统,在该价格段性价比高。对准器搭载 OAI 优良光束光学技术,良好均匀性。借助 OAI 精密光刻模块可实现升级,800E 型成为实验室或现场适用的多功能工具。它采用 Windows 10 控制及配方存储功能,还配备操纵杆控制的对准和光学载台,可配置非接触式三点楔效应校正及自动对准功能。这些特性组合常见于更昂贵的掩模对准器,而 800E 型以实惠价格即可提供 。
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包含上述所有正面特性,另加:
额外配备 2 个相机(共 4 个)
数字变焦功能
电动背面光学聚焦
半自动正面对准背面对准优良光束光学系统2相机和4相机版本多种可选配置

