微波去胶机主要利用微波能量激发等离子体，使气体分子电离产生大量高能活性粒子。这些活性粒子与光刻胶发生化学反应，将光刻胶分解为挥发性物质，从而达到去除光刻胶的目的。例如，在氧气环境中，微波激发产生的氧离子等活性粒子能与光刻胶中的有机成分反应，...

PIETergeo-pro等离子清洗机成功安装案例：助力山东高等研究院科研升级近日，我公司销售的美国PIE公司的Tergeo-pro等离子清洗机在山东高等研究院完成了成功安装与调试，标志着双方在科研设备领域的合作迈出了坚实一步。此次设备的顺...

旋涂显影系统是半导体制造、微电子加工以及光学器件制备等领域中至关重要的工艺设备之一。它主要通过高速旋转的方式，将液态的光刻胶均匀地涂覆在硅片等基底表面，随后经过显影等后续处理，形成所需的图案，为后续的蚀刻、掺杂等工艺步骤奠定基础。旋涂显影系...

薄膜沉积系统的核心功能模块通常包括真空腔体、气源供应系统、能量输入装置及过程控制系统。真空腔体作为反应环境载体，需维持特定压力范围以调控气相分子的平均自由程，从而优化薄膜生长动力学。气源供应系统通过精确配比不同气体组分，实现薄膜化学成分的灵...

等离子刻蚀ICP技术以其高精度、高效率和高选择性在微纳加工领域中发挥着重要作用。通过了解其原理、应用及设备选择和操作方法，可以更好地利用这一技术进行微电子器件、生物芯片和纳米结构的制备。等离子刻蚀ICP设备的维护保养方法涉及多个方面：1.仪...

在纳米科技和半导体工业的浪潮中，匀胶旋涂仪以其特殊的魅力，成为了材料制备和薄膜沉积过程中不可少的工具。这种设备通过高速旋转基片，利用离心力将液体均匀地铺展在基片表面，形成一层厚度可控、均匀性好的薄膜。这一过程不仅体现了物理学中离心力的巧妙应...

在半导体制造的精细工艺中，刻蚀、显影与清洗是三个至关重要的步骤。它们共同构成了芯片生产中不可少的一环，确保了电路图案的准确转移和芯片性能的稳定。刻蚀显影清洗系统是利用化学或物理方法去除材料表面特定区域的过程，它是半导体器件制造中形成微小结构...

热重分析质谱仪(TG-MS)是一种结合了热重分析(TG)和质谱分析(MS)的分析技术，广泛应用于材料科学、化学工程以及环境监测等领域。1.热重分析(TG)：热重分析是指在程序控制温度下测量待测样品的质量与温度变化关系的一种热分析技术。通过记...

等离子清洗机主要由真空系统、气体供应系统、射频发生器、控制系统等部分组成。工作原理是：首先将待处理的材料放入真空室中，通过真空泵将真空室内的气压降低到一定程度；然后向真空室内通入惰性气体(如氩气、氮气等)，在射频电场的作用下，气体分子被激发...

激光二极管，简称LD，是现代光电技术中不可少的核心组件，广泛应用于光通信、医疗、工业加工及消费电子产品等领域。随着技术的发展和应用需求的扩大，对激光二极管性能的测试变得尤为重要。激光二极管测试仪器便是专门用来评估和保证激光二极管性能的关键设...