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    Model 6000 生产型掩膜曝光机

    Model 6000 生产型掩膜曝光机由OAI设计与制造 可用于半导体、微机电系统(MEMS)、传感器、优良晶圆级封装(WLP)、化合物半导体、发光二极管(LED)以及扇出型面板级封装(Fanout PLP)。

    更新时间:2025-07-04型号:浏览量:79
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