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  • 20254-23
    薄膜沉积系统在半导体工业中承担着关键角色

    薄膜沉积系统作为现代材料科学与微纳加工技术领域中的核心设备之一,其发展与应用深刻影响着半导体制造、光学镀膜、能源材料开发以及生物医学工程等多个前沿领域。该系统通过精确控制原子或分子在基底表面的沉积过程,形成具有特定功能特性的薄膜结构,为器件...

  • 20253-30
    KLA Instruments太阳能电池量测解决方案

    太阳能电池大多由单晶硅或多晶硅制成,将晶硅锭加工成太阳能电池需要一系列制造工艺,包括晶圆切割、制绒、酸洗、扩散、刻蚀、减反膜沉积、激光开槽、接触印刷等。下图为工艺流程中的测量节点。太阳能电池工艺流程中的量测节点,包括金刚石切割线的表面形貌、...

  • 20253-30
    薄膜方块电阻和厚度测量—KLA45年电阻测量技术创新的桌面型解决方案

    在半导体芯片等器件工艺中,后道制程中的金属连接是经过金属薄膜沉积,图形化和蚀刻工艺,最后在器件元件之间得到导电连接。对于半导体、PCB、平板显示器、太阳能应用和研发等不同行业,对各种金属层(包括导电薄膜、粘附层和其他导电层)都有各种各样的电...

  • 20253-30
    新应用—KLA纳米压痕仪对电池材料的测量

    电池的应用极为广泛,其通常以电化学反应池的形式为各类装置供电。电池内在失效和劣化对电池性能有重大影响,而其机制依赖于不同组成材料之间的电化学反应和纳米力学相互作用。下一代电池要求高能量密度和高充放电倍率(C-rate,充放电速率的一种衡量标...

  • 20253-29
    基于KLA探针式轮廓仪的薄膜应力测量

    随着器件尺寸不断缩小,表面翘曲度可能引发一些问题从而影响器件的正常功能。在半导体中,薄膜应力对半导体能带隙偏移、超导转变温度和磁各向异性等电子特性有直接影响。在器件制造过程中,监控因薄膜沉积而产生的应力至关重要。在薄膜层面,应力通常会影响薄...

  • 20253-28
    IC载板制造商需要了解的光刻技术信息

    图像转移,也称为光刻技术(或简称光刻),在PCB的电路图形方面发挥关键作用。它能实现复杂和精确的连接,以支持在更小的区域实现更多连接。随着对更高密度的电路板和更小线宽间距的需求不断增加,线路必须以高精度和均匀度制成。针对先进应用,各种先进I...

  • 20253-28
    钙钛矿太阳能电池超薄膜厚度测量应用 — KLA表面轮廓仪

    钙钛矿材料因其优异的光电特性,近年来一直受到高度关注。相应的钙钛矿太阳能电池在柔性太阳能电池领域和叠层太阳能电池领域也有广泛应用前景。早在2009年,铅基钙钛矿材料第一次被应用到太阳能电池中,其光电转化效率为3.8%1。近些年来,通过组分调...

  • 20253-28
    TOPCon 太阳能电池片的方阻测试— KLA R54 系列

    在全球各国努力减少碳足迹与追寻可持续能源的大背景下,太阳能行业经历了显著增长。在基于晶体硅(c-Si)的多种工艺路线中,隧穿钝化接触太阳能电池(TOPCon)因其高光伏转换效率(PCE)和高性价比而脱颖而出。目前工业TOPCon电池的最高P...

  • 20251-17
    等离子刻蚀ICP的应用有哪些?

    等离子刻蚀ICP(InductivelyCoupledPlasmaEtching)是一种微纳加工技术,广泛应用于半导体器件制造和微纳加工领域中。一、等离子刻蚀ICP的原理1.等离子体的产生:-ICP刻蚀利用高频电场激励气体,使其电离形成等离...

  • 202412-25
    匀胶旋涂仪的维护保养方法涉及多个方面

    在未来,随着新材料的不断涌现和器件性能要求的提高,匀胶旋涂仪的技术也将不断进步。例如,通过引入更流体动力学模拟和人工智能算法,可以进一步优化涂覆过程,实现更加精细的薄膜结构控制。此外,微型化和便携化也是未来的发展趋势,这将使得它能够在更多领...

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