EM-KLEEN等离子体清洗机

EM-KLEEN 远程等离子体源和控制器

全自动操作，最快的清洗速度，宽压力范围

EM-KLEEN等离子体清洗机可用于电子显微镜和其他类型分析仪器（如 SEM、FIB、TEM、XPS 和西姆斯）的样品和真空室的原位清洁。它可以有效地去除高真空或超高真空室中的碳氢化合物和氟碳化合物污染物，提高极限真空水平，减少抽气时间。它还可以在表面成像和分析之前去除样品表面上的有机污染物。该系统包括一个电阻式液晶触摸屏控制器与嵌入式微计算机和远程等离子体源。应在待清洁的真空室上安装远程等离子体源。标准真空接口端口为 NW/KF 40 法兰。可提供不同 SEM 端口的适配器。也可选择 CF2.75″法兰。

EM-KLEEN 是一种全自动等离子源。该设计直观且通用。EM-KLEEN 远程等离子体源虽然体积小，但集成了皮拉尼压力传感器、电子可变气体流量控制器、等离子体强度传感器、温度传感器和冷却风扇。流量控制器自动调节气体流速，以达到等离子体源内部的配方指定压力。该控制器可以存储多达 60 个配方，具有不同的射频功率，工作压力，气体流速和清洁持续时间。不需要手动调整不同的配方。微型压力传感器持续监测样品室压力。它可在安全操作模式下用作安全联锁触发器，并为 SmartSchedule™功能计数样品加载事件。冷却风扇可实现长时间高功率运行。等离子体强度传感器实时测量等离子体强度，用户不再对等离子体状态视而不见。

通过压力传感器、自动气体流量控制器、等离子传感器、温度传感器和带嵌入式微处理器的 LCD 触摸屏控制器的协同工作，EM-KLEEN 原位等离子清洗机可以自动维护您的系统，并防止潜在的用户错误。PIE Scientific 开发的 SmartClean™技术结合了核研究和半导体行业中开发的等离子体源设计技术。EM-KLEEN 等离子清洗机远比市场上类似的远程等离子清洗机先进。此外，许多功能仅在我们的产品上提供。

EM-KLEEN等离子体清洗机功能列表

• 石英源体电感耦合等离子体源设计。在市场上同类产品中清洗速度最快。

• 低压高效等离子体放电技术起源于劳伦斯伯克利国家实验室开展的研究工作

• 在极低的压力下瞬间等离子点火。用户无需担心等离子体是否会点燃。无需手动调节旋钮即可点燃 EM-KLEEN 上的等离子体。

• 电子式气体流量控制器，可自动调节气体流量，达到配方规定的操作压力。无需调节旋钮来改变气体流速。

• 用于等离子体强度监测的等离子体强度传感器。当用户调整射频功率和工作压力时，提供实时反馈。它还帮助控制器了解等离子体状态，从而提供智能和全自动调节。

• 0-75 13.56MHz 时的射频功率。射频功率可以以 1 瓦的间隔进行调节。

• 带有触摸屏用户界面的微型计算机。

• 通过 RS232/RS485 协议的直观远程 PC 控制用户界面。

• 智能的“安全操作模式"和“专家操作模式"，带有用户自定义的警告信息。一个非常有用的功能，如果电子或离子显微镜是由许多没有经验的用户共享。

• 微型计算机上可定制的 SmartScheule 功能可以自动照顾您的系统。

• 支持 60 个可定制的配方，具有不同的射频功率瓦数，等离子管压力，气体流速和清洁持续时间。

• 主动式风扇冷却，实现高功率高速清洁。

• 超温联锁保护。

• 易于携带的控制器。该系统可以很容易地在不同的系统之间移动。