关于Ion Source离子源 等离子离子源 LMIS 和 GFIS 是三种常见的离子源类型。LMIS 和 GFIS 具有出色的源亮度。因此，它们被广泛用于高分辨率离子束成像和微加工应用。然而，LMIS 和 GFIS 的总电流比等离子离子源低许多数量级。如果特征尺寸大于 50 nm，则等离子离子源可以实现比 LMIS 和 GFIS 高得多的通量。

Gas Mixers气体混配器用于 SEMI-KLEEN 和 EM-KLEEN 系列远程等离子源

TEM cube多用途样品清洁及储存腔室可用于在高真空下存储多达 8 个 TEM 样品架（极限真空在 10 -7 Torr 范围内）。真空度足够高，可以检查原位 TEM 芯片的泄漏。它还可以配备远程 EM-KLEEN 等离子源，以在腔室中进行等离子清洁。腔室的大小为 9 英寸立方。它可以拟合相当大的 TEM 和 SEM 样品和组件。房间有一个玻璃前门用于观察。

TEM 样品架真空泵站可在真空条件下存储多达六个 TEM 样品架，以帮助样品和样品架放气，去除水凝结，并保持样品和支架清洁。它还可用于试样夹具座的泄漏检查。

关于SEMI-KLEEN UHV等离子体清洗机 SEMI-KLEEN 和 EM-KLEEN 系列远程等离子体清洗机基于劳伦斯伯克利国家实验室开发的高效电感耦合等离子体（ICP）放电技术。与传统 ICP 放电技术相比，我们的 Turbo Discharge™技术进一步提高了等离子体强度多达 3 倍。