Ion Source离子源

简要描述：关于Ion Source离子源
等离子离子源 LMIS 和 GFIS 是三种常见的离子源类型。LMIS 和 GFIS 具有出色的源亮度。因此，它们被广泛用于高分辨率离子束成像和微加工应用。然而，LMIS 和 GFIS 的总电流比等离子离子源低许多数量级。如果特征尺寸大于 50 nm，则等离子离子源可以实现比 LMIS 和 GFIS 高得多的通量。

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所属分类：离子源

更新时间：2025-06-24

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Ion Source离子源适用于各种应用的高亮度等离子离子源

等离子离子源 LMIS 和 GFIS 是三种常见的离子源类型。LMIS 和 GFIS 具有出色的源亮度。因此，它们被广泛用于高分辨率离子束成像和微加工应用。然而，LMIS 和 GFIS 的总电流比等离子离子源低许多数量级。如果特征尺寸大于 50 nm，则等离子离子源可以实现比 LMIS 和 GFIS 高得多的通量。

等离子离子源可以通过改变工艺气体产生不同种类的离子。此外，等离子离子源能够与质量过滤器结合使用产生负离子种类。

Ion Source离子源