Model 2000 边缘去胶紫外泛光曝光机
简要描述:Model 2000 边缘去胶紫外泛光曝光机由OAI设计与制造2000SM型可显著减少因常规晶圆操作而产生的颗粒污染。在OAI 2000SM型和2000FL型系统中,机器人是主要移动部件,这一设计极大地简化了这套系统。
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所属分类:Model 2000 边缘去胶紫外泛光曝光机
更新时间:2025-07-04
厂商性质:生产厂家
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Model 2000 边缘去胶紫外泛光曝光机
从简便性、多功能性、操作便捷性以及总体拥有成本来看,OAI边缘去胶与泛光曝光系统无疑是目前的好解决方案。
OAI 2000 型可配置为边缘胶珠曝光工具或泛光曝光系统;两种配置均基于经实践验证、长期可靠的平台。OAI 2000SM 边缘胶珠曝光系统采用标准荫罩技术,为边缘胶珠曝光提供具成本效益的方法。掩模与基板的更换可快速便捷完成,提升了这款大批量生产工具的多功能性与吞吐量。
2000 型配备紫外光源、控制光强的电源以及自动基板传输子系统。紫外光源可提供均匀光强的光束,发散半角小于 2.0º 。电源功率可选 200 瓦至 5000 瓦。光强控制器传感器直接与光源相连,实现精准光强监测。OAI 自动基板传输系统由微处理器控制,可通过编程适配多种基板尺寸。荫罩功能使用户能够在基板与掩模近距离贴合时,对基板正面进行图案加工。当间距为 25 微米时,这些系统可实现 6 微米的分辨率。
2000FL 泛光曝光系统用于在生产及研发场景中强化和 / 或优化光刻工艺。应用包括光刻胶稳定化与改性、图像反转以及 PCM(工艺控制监测 )工艺。
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吞吐量不受图案复杂度影响
可一次性曝光整个基板
配备光强控制电源
更换曝光图案如同更换遮罩一样简单
换型(含掩模对准)仅需 10 分钟

