Model 6020 全自动掩模曝光机

简要描述：Model 6020 全自动掩模曝光机由OAI设计与制造
用于重新分布层（RDL）面板级封装和玻璃面板曝光的大尺寸基板生产型掩模对准器或泛光曝光系统。

产品型号：

所属分类：Model 6020 全自动掩模曝光机

更新时间：2025-07-04

厂商性质：生产厂家

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Model 6020 全自动掩模曝光机

Model 6020 全自动掩模曝光机

6020 型是一款针对先布线型面板级*封装（PLP）及大尺寸玻璃面板曝光市场需求而设计的大面积全自动生产型掩模对准器或自动泛光曝光系统。该系统采用 OAI *的光束光学技术，配备 1KW-8KW 功率的紫外光源，光束尺寸覆盖 12 英寸 ×12 英寸至 20 英寸 ×20 英寸，提供均匀度≤3%-5% 的光束。在掩模对准模式下，系统可实现≤2.0μm 的光刻分辨率。

顶面 / 底面对准

高吞吐量

1 千瓦–8 千瓦准直光束光源，光束尺寸从 12 平方英寸到 20 平方英寸

光源光束均匀性达 3-5%

用于自动对准的高速编码器和电机

SECS/GEM 通信协议兼容性

多种面板处理能力

12 平方英寸到 20 平方英寸的面板

可选分步卡盘，用于子面板加工

14 平方英寸到 24 平方英寸的掩模插入件

楔形效应调平

工艺重复性

<2.0 微米的印刷分辨率

远程诊断

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关键特性

高精度对准系统：可选配 Smart cam 高分辨率 CCD 相机系统，结合 OAI 图案识别软件，实现精确的顶面自动对准和便捷操作。
灵活的基板处理能力：支持从超薄到超厚及键合面板等多种基板厚度，基板卡盘具备 XYZ 轴及 θ 角运动功能，含步进功能，可处理整版或拼接在大面板上的子面板。
自动化集成方案：采用机器人上下料系统，可独立运行或与光刻胶处理设备集成。
工艺稳定性保障：OAI 6020 系列在性能、可靠性和重复性方面优秀表现，是先布线型面板级封装生产及大面积玻璃面板曝光的理想选择。

Model 6020 全自动掩模曝光机

Model 6020 全自动掩模曝光机规格参数

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