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  • KLA Nano Indenter® G200X纳米压痕仪
    KLA Nano Indenter® G200X纳米压痕仪

    KLA Nano Indenter® G200X纳米压痕仪是一种易于使用的纳米级力学测试工具,可快速提供精确的定量分析结果。G200X系统可处理从硬质涂层到软质聚合物的各种样品,并提供KLA Instruments纳米压痕仪产品线中全面的测试套件。

    更新时间:2025-03-10型号:浏览量:659
  • KLA Candela® 7100系列缺陷检测和分类系统
    KLA Candela® 7100系列缺陷检测和分类系统

    KLA Candela® 7100系列缺陷检测和分类系统为硬盘驱动器基板和介质提供了高级缺陷检测和分类功能。7100系列硬盘驱动器缺陷检测和分类系统以经过生产验证的Candela产品系列为基础,可帮助制造商对关键的亚微米缺陷进行检测和分类,如微凹坑、凸起、微粒以及被埋入的缺陷,从而最大限度地提高良率并降低总检测成本。

    更新时间:2025-03-09型号:浏览量:204
  • KLA Candela® 6300系列光学表面分析仪系统
    KLA Candela® 6300系列光学表面分析仪系统

    KLA Candela® 6300系列光学表面分析仪系统为金属或玻璃数据存储基板和成品介质提供了先进的量测和检测功能。随着数据存储制造商努力通过进一步降低磁头飞行高度来提高设备存储容量,控制磁盘表面的粗糙度变得越来越重要。6300系列光学表面分析仪利用业界最宽的空间带宽覆盖范围(0.22-2000µm)和亚埃级本底噪声来满足对粗糙度和微观波纹度进行全面测量的要求。

    更新时间:2025-03-09型号:浏览量:200
  • KLA Candela® 8720表面缺陷检测系统
    KLA Candela® 8720表面缺陷检测系统

    KLA Candela® 8720表面缺陷检测系统先进的集成式表面和光致发光(PL)缺陷检测系统可以捕获各种关键衬底和外延缺陷。采用统计制程控制(SPC)的方法来进行自动晶圆检测,可显著降低由外延缺陷导致的良率损失,最大限度地减少金属有机化学气相沉积(MOCVD)反应器的工艺偏差,并增加MOCVD反应器的正常运行时间。

    更新时间:2025-05-09型号:浏览量:277
  • KLA Candela® 8520表面缺陷检测系统
    KLA Candela® 8520表面缺陷检测系统

    KLA Candela® 8520表面缺陷检测系统第二代集成式光致发光和表面检测系统,设计用于对碳化硅和氮化镓衬底上的外延缺陷进行高级表征。采用统计制程控制(SPC)的方法来进行自动晶圆检测,可显著降低由外延缺陷导致的良率损失,最大限度地减少金属有机化学气相沉积(MOCVD)反应器的工艺偏差,并增加MOCVD反应器的正常运行时间。

    更新时间:2025-05-09型号:浏览量:904
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