KLA Filmetrics F50薄膜厚度测量仪采用自动化R-Theta平台，支持标准和定制化样品夹盘，最大样品直径达450毫米，能高效测绘薄膜厚度。该设备适用于多种厚度和类型的薄膜，包括薄至5纳米或厚至250微米的薄膜，并可根据不同需求选择不同波长范围的型号。

KLA Filmetrics F40薄膜厚度测量仪通过将显微镜转变为薄膜测量工具，实现小至1微米光斑的厚度和折射率测量。该设备配备集成彩色摄像机，可在1秒内完成测量，并且支持多种型号以适应不同厚度和波长范围的需求。用户只需将其连接至Windows计算机并通过USB端口操作即可。此外，F40系列提供全面的技术支持和材料库，方便用户进行精确测量。

KLA Filmetrics F30薄膜厚度测量仪通过实时监控沉积过程，提供高精度、快速且非侵入式的测量解决方案，适用于多种半导体和电介质材料。其主要特点包括提高生产力、低成本、高精度及易用性。该系列产品覆盖不同厚度和波长范围，满足多样化测量需求。

KLA Filmetrics F3-sX薄膜厚度测量仪系列，涵盖近红外光波长范围980 nm、1310 nm及1550 nm，能够测量从15纳米至3毫米的薄膜厚度，适用于半导体与介电层等材料。该设备具备单点测量功能，配备10微米光斑尺寸的集成光谱仪和光源，并支持扩展功能如自动化测绘平台和不同波长选项。此外，它还提供了超过130种材料的数据库支持，以及在线技术支持服务。

KLA Filmetrics F3-CS快速厚度测量系统专为微小视野及样品设计，支持快速、简易的厚度测量，适用于聚对二甲苯和真空镀膜层等。其具备自动校正功能，可自动调节灵敏度并简化设置过程。系统可通过USB供电，并兼容多种Windows操作系统。