AT810 经济性原子层沉积设备是小占地面积台式系统。采用半导体级金属密封管路以及兼容高温的快速脉冲原子层沉积（ALD）阀。用于集成惰性气体吹扫的超快速质量流量控制器（MFC）。6 英寸圆形卡盘（最大适配 7 英寸方形），可针对更小尺寸或其他形状（高 11 毫米）定制。

AT610 经济性原子层沉积设备是小占地面积台式系统。采用半导体级金属密封管路以及兼容高温的快速脉冲原子层沉积（ALD）阀。用于集成惰性气体吹扫的超快速质量流量控制器（MFC）。6 英寸圆形卡盘（最大适配 7 英寸方形），可针对更小尺寸或其他形状（高 11 毫米）定制。

AT 臭氧发生器采用高品质元器件，能以极小的体型提供高浓度（最高 12%）臭氧。该系统无需昂贵且笨重的水冷装置，内置的高速风扇即使在长时间或持续使用时，也能保持等离子体室的冷却。可在臭氧、氧气和关闭状态之间进行手动或自动切换。

AT650/850T 台式热原子层沉积设备，具备现场升级为等离子体模式的能力，占地面积小（38.1 厘米，宽 15 英寸），可容纳直径为 6 英寸或更小的样品。

AT650/850P 台式等离子原子层沉积设备，其以热系统，配备新高级空心阴极源与 60 MHz RF，有低氧污染等特点；占地小，可容纳 6 英寸及更小样品，可选定制卡盘；有 4 个有机金属源前驱体、多达 4 个氧化剂 / 还原剂源；具备高温兼容快速脉冲 ALD 阀等；温度范围广，静态处理模式可获高曝光 。