
VSS-450-300 台式真空烧结炉
腔室:
腔室尺寸:350毫米 x 350毫米 x 75毫米(可选配增高至120毫米,带有直径65毫米的圆形观察窗口)
可选:增加开口高度:200毫米至300毫米
腔室壁:铝材打磨,易于清洁(可选不锈钢)
填料:
盖子:垂直打开和关闭(顶部填料器)
可直接或远程控制进行自动应用(SPS、机器人等)
升温速率:高达150K/分钟
降温速率:高达120K/分钟
加热:
底部加热:2组12个交叉式灯管,总功率18千瓦
顶部加热:根据要求提供
冷却:
腔室:通过310毫米 x 310毫米的水冷石墨板进行冷却
过程控制:
控制:带有7英寸触摸屏的SIMATIC SPS
软件:过程控制、编程、记录和过程文档
可存储50个程序,每个程序具有50个步骤
工艺气体:
标配1个质量流量控制器,5 nlm(标准升/分钟)
可选:最多4条气体线路
真空(可选):
MPC(化学耐久性膜泵):10 hPa。通过压力表监测。
RVP(旋转叶片泵):10exp.-3 hPa。真空传感器可达10exp.-3 mbar
连接:
电源:1 x [CEE 3 x 32 A / 3~ +N+ PE, 230 V]。背面。
真空连接器:KF 25
排气口:KF16。后侧。
气体线路:4毫米外径Swagelok压缩接头
尺寸/重量:
尺寸:540毫米 x 690毫米 x 890毫米(宽 x 深 x 高)
重量:约140千克

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VSS - 300 真空工艺烘箱
VSS - 300 回流焊系统是一款出色的设备,适用于多种焊接工艺,可处理直径达 300 毫米的晶圆,或 300 毫米 ×300 毫米、高度 75 毫米的基板(选配件:EH 型,高度 120 毫米 )。
应用示例如下:
可作为实验室炉,供各类研发人员实施和研究新工艺、进行原型研究、环境研究,以及用于小批量试产或量产 。
工艺气体
VSS - 300 可使用标准工艺气体,如氮气、氧气、形成气(还原气 )。腔室密封,易于清洁 。
气流控制
默认配置一路带质量流量控制器(MFC )的氮气流路(5 标准升 / 分钟 ),还可增配三路气路(选配件:MFC ) 。
真空度
系统可实现真空度达 10⁻³ 百帕(可选配至 10⁻⁶ 百帕 ) 。
加热
可达到的最高温度为 450°C(选配件:650°C )。关键特点是精准控制的快速升温(150 开尔文 / 分钟 )以及出色的降温速率(取决于温度和负载 ) 。
温度分布
VSS - 300 能实现的温度分布与均匀性。可选配在石英底板上插入石墨基座 。
编程控制
VSS - 300 由 SPS SIMATIC® 控制器控制。7 英寸触摸屏让工艺编程与控制十分便捷。最多可存储 50 个程序,每个程序含 50 个步骤(可从外部数据存储设备无限制地上传、下载程序 ) 。
工艺控制
软件可对以下参数进行持续监测、读取和分析:
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工艺气体
除氮气、氧气、成形气等标准工艺气体外,该系统(取决于型号)还可使用纯氢气(可选配 H2 和 HS2)。腔室采用密封设计,易于清洁。选配 RSS-FA 可使用甲酸,以实现无空洞焊接效果。
流量控制
标配 1 条带质量流量控制器(MFC)的气体管路。甲酸模块(RSS-FA)或 100% 氢气(RSS-H2)等选配件,由独立质量流量控制器控制或共用气体管路。
真空
系统可实现 10⁻³ 百帕的真空度。可选配件包括膜片泵、耐化学泵(使用 RSS-FA 时推荐)和旋片泵。
温度分布
最高温度为 400°C(可选配至 500°C)。核心特点是精确控制的快速升温(取决于型号,最高 240 K / 分钟)和降温速率(最高 120 K / 分钟)。热板具有优异的温度分布性和均匀性。
编程
系统配备 7 英寸触摸屏,可直接在设备上便捷编程。可存储 50 个程序,每个程序含 50 个步骤。可从外部存储介质无上传和下载程序。
过程控制
该软件可对以下内容进行持续监控、读取和分析:
冷却
热板采用水冷方式,需配备外部水冷装置(建议使用闭环水冷系统)。

