微波去胶机-光刻胶去胶液-等离子刻蚀ICP-韦氏纳米系统（深圳）有限公司

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微波去胶机的这些知识值得我们学习

微波去胶机主要利用微波能量激发等离子体，使气体分子电离产生大量高能活性粒子。这些...

2025-06-05

需要定期对微波去胶机进行清洁和维护

微波去胶机，特别是微波等离子去胶机，在半导体加工、薄膜工艺等领域应用广泛，根据不同的光刻胶类型、基底材料和工艺要求，准确调整微波功率、真空度、气体流量等参数，以确保去胶效果和基底不受损伤；微波具有一定的辐射危害，操作人员需采取相应的防护措施...

2025-06-24

旋涂显影系统的性能会直接影响到整个制造工艺的质量和效率2025-05-27
薄膜沉积系统在半导体工业中承担着关键角色2025-04-23
KLA Instruments太阳能电池量测解决方案2025-03-30
薄膜方块电阻和厚度测量—KLA45年电阻测量技术创新的桌面型解决方案2025-03-30
新应用—KLA纳米压痕仪对电池材料的测量2025-03-30
基于KLA探针式轮廓仪的薄膜应力测量2025-03-29

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